Methoden zur Züchtung und zur Charakterisierung
dünner Filme und Nanostrukturen
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| Laser-Plasmaabscheidung (Pulsed Laser Deposition PLD) von dünnen Filmen mittels Excimerlaser LPX 305i |  |
| PLD-G-Kammer bis 4-Zoll-Substratdurchmesser, Multitargeteinrichtung |  |
| PLD-M-Kammer mit 15x15 mm²-Heizer, Multitargeteinrichtung, mit RF-Radikalenquelle |  |
| PLD-S-Kammer mit 4-Zoll-Heizer, Multitargeteinrichtung |  |
| PLD-E-Kammer mit Multitargeteinrichtung, 3-Zoll-Heizer, in-situ spektroskopische Ellipsometrie. |  |
| PLD-Q-Kammer für Gasdrücke im mbar-Bereich, für Nano-Heterostrukturen |  |
| DC-Sputterkammer für Au, Pt, Ti, Cr, Ag,... |  |
| Oberflächendiagnostik
mit
Elektronenbeugung RHEED |
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| Sekundär-Neutralteilchen-Massenspektrometrie
SNMS Leybold INA3 zur Element- und
Tiefenprofilanalytik.
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| Oberflächen-Profilometer DEKTAK 3030 |  |
| Scan der kritischen Stromdichte von doppelseitigen Hochtemperatur-Supraleiter-Filmen bis 71 x 75 mm² Fläche |  |
| RCL-Messbrücke mit Proben-Temperaturregelung von -35 bis +85°C |  |
| Raster-Tunnel-Mikroskop
„Beetle"-STM |
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| Sintern bis
1200°C (Kammerofen) und 1800°C (Rohrofen),
Kugelmühlen,
Preßwerkzeuge zur PLD-Targetherstellung, im Rohrofen auch thermisches Wachstum von ZnO-Nanostrukturen |
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| Vektorieller Mikrowellen-Netzwerkanalysator Anritsu-Wiltron 37347A bis 20 GHz. |  |
| Zeiss-Labormikroskop Axiolab mit CCD-Kamera |
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Michael Lorenz, 08. März 2004